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中子钨辐射屏蔽件

中子辐射

中子是构成物质原子核的基本粒子之一,它的质量与质子相同。中子辐射通常是用人工的方法从原子核中释放出来的。中子辐射由自由中子所组成,可由自发或感应产生的核裂变,核聚变或其他核反应产生。中子非电离辐射不会电离原子,但可与不同元素之原子核撞击,进行"中子激发",产生不稳定同位素,使物质具放射性。中子进入原子核内引起核子反应(中子核反应neutron induced nuclear reaction),会释放大量的高能中子,高能中子具有杀伤力。

中子钨辐射屏蔽件应用

对块中子的屏蔽,最好是用钨合金材料,钨合金是高密度金属材料,密度越高对中子的屏蔽效果越好,因此10cm厚度的钨合金材料对中子的屏蔽可达93%,足见其效果显著,是中子屏蔽材料的最佳选择。中子钨辐射屏蔽件作为中子辐射的屏蔽材料可在选择性肿瘤放射治疗,核工业,空间和航空航天工业,以及高可靠性爆炸物工业中应用。

为何使用中子钨辐射屏蔽件?

钨合金是用来做中子钨辐射屏蔽件的最佳材料。与传统屏蔽材料铅相比,钨合金屏蔽件体现了很好的价值。铅块是较早用于屏蔽件领域的金属材料,但是在使用过程中发现,铅制作的屏蔽件的屏蔽辐射能力不够高,还会对环境造成严重的污染。钨屏蔽的辐射屏蔽件能力是的铅屏蔽件的两倍。钨屏蔽件的重量比铅少25%至50%,同时铅为有毒材料而钨合金屏蔽件材料是无毒的,使用钨合金屏蔽材料对人体及环境不会造成危害。

进行屏蔽设计时,可根据要求屏蔽层达到的总的减弱倍数计算屏蔽材料的厚度。
公式:K=e0.693 d / △1/2
K:屏蔽层的总减弱倍数
△ 1/2:该屏蔽材料的半值层值
d:屏蔽层厚度,其单位同半值层厚度,需要将半值层的质量厚度换算成材料的厚度时,再除以材料的密度即可得到。

 

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